| 光敏高分子 |
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作者：佚名 文章来源：本站原创 点击数： 更新时间：2006-2-14 20:20:06  |
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photosensitive polymers
在光作用下能迅速发生化学和物理变化的高分子，或者通过高分子或小分子上光敏基团所引起的光化学反应（如聚合、二聚、异构化和光解等）和相应的物理性质（如溶解度、颜色和导电性等）变化而获得的高分子材料。
光敏高分子可按不同情况分类。按高分子合成目的不同，可分为：①在侧链或主链上含有光敏官能团的高分子。②由二元或多元光敏官能团构成的交联剂。③在高效光引发剂存在下单体或预聚体发生聚合和交联而生成的高分子。
按应用技术不同可分为：①成像体系，主要用于光加工工艺、非银盐照相、复制、信息记录和显示等方面；光致抗蚀剂是很重要的一类，又称光刻胶，大量用于印刷制版和电子工业的光刻技术中。其工作原理是受光部分发生交联成难溶的硬化膜，经加工成负像（负性胶），或原来不溶性胶受光照后变成可溶性，经加工成正像（正性胶）。常用的光致抗蚀剂有：聚肉桂酸酯型、丙烯酰基型、叠氮型、重氮盐类和邻偶氮醌型等。②非图像体系，大量用于光固化涂层、印刷油墨、粘合剂和医用材料等方面。尤其前两类，由于它们不需用溶剂、无污染以及固化速率快等优点，近年来发展很快，它们主要由树脂或预聚体、交联单体（一般为双或多官能丙烯酸酯类）、光引发剂和颜料或染料组成。③其他功能性光敏高分子。可根据不同用途，通过引入相应功能的光敏官能团而制得，如利用吲哚啉苯并螺吡喃的光异构反应，制备光致变色高分子等。
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